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簡要描述:小型晶體生長爐是一種用于電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器,于2011年6月7日啟用。
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小型晶體生長爐
原則上可以由固態(tài)、液態(tài)(熔體或溶液)或氣態(tài)生長而得。實(shí)際上人工晶體多半由熔體達(dá)到一定的過冷或溶液達(dá)到一定的過飽和而得。晶體生長是用一定的方法和技術(shù),使單晶體由液態(tài)或氣態(tài)結(jié)晶成長。由液態(tài)結(jié)晶又可以分成熔體生長或溶液生長兩大類。
熔體生長又分為:
直拉法
此法是由熔體生長單晶的一項(xiàng)最主要的方法,適用于大尺寸晶體的批量生產(chǎn)。被加熱的坩堝中盛著熔融的料,籽晶桿帶著籽晶由上而下插入熔體,由于固液界面附近的熔體維持一定的過冷度、熔體沿籽晶結(jié)晶,并隨籽晶的逐漸上升而生長成棒狀單晶。坩堝可以由高頻感應(yīng)或電阻加熱。半導(dǎo)體鍺、硅、氧化物單晶如釔鋁石榴石、釓鎵石榴石、鈮酸鋰等均用此方法生長而得。應(yīng)用此方法時(shí)控制晶體品質(zhì)的主要因素是固液界面的溫度梯度、生長速率、晶轉(zhuǎn)速率以及熔體的流體效應(yīng)等。
坩堝下降法
將盛滿材料的坩堝置放在豎直的爐內(nèi)爐分上下兩部分,中間以擋板隔開,上部溫度較高,能使坩堝內(nèi)的材料維持熔融狀態(tài),下部則溫度較低,當(dāng)坩堝在爐內(nèi)由上緩緩下降到爐內(nèi)下部位置時(shí),材料熔體就開始結(jié)晶。坩堝的底部形狀多半是形,或帶有*,便于優(yōu)選籽晶,也有半球形狀的以便于籽晶生長。晶體的形狀與坩堝的形狀是一致的,大的堿鹵化合物及氟化物等光學(xué)晶體是用這種方法生長的。
區(qū)熔法
小型晶體生長爐
溶液生長又分為:
水溶液法
對于具有負(fù)溫度系數(shù)或其溶解度溫度系數(shù)較小的材料,可以使溶液保持恒溫,并且不斷地從育晶器中移去溶劑而使晶體生長,采用這種辦法結(jié)晶的叫蒸發(fā)法。
水熱法
在高溫高壓下,通過各種堿性或酸性的水溶液使材料溶解而達(dá)到過飽和進(jìn)而析晶的生長晶體方法叫水熱生長法。這個方法主要用來合成水晶,其他晶體如剛玉、方解石、藍(lán)石棉以及很多氧化物單晶都可以用這個方法生成。水熱法生長的關(guān)鍵設(shè)備是高壓釜,它是由耐高溫、高壓的鋼材制成。它通過自緊式或非自緊式的密封結(jié)構(gòu)使水熱生長保持在200~1000°C的高溫及1000~10000大氣壓的高壓下進(jìn)行。培養(yǎng)晶體所需的原材料放在高壓釜內(nèi)溫度稍高的底部,而籽晶則懸掛在溫度稍低的上部。由于高壓釜內(nèi)盛裝一定充滿度的溶液,更由于溶液上下部分的溫差,下部的飽和溶液通過對流而被帶到上部,進(jìn)而由于溫度低而形成過飽和析晶于籽晶上。被析出溶質(zhì)的溶液又流向下部高溫區(qū)而溶解培養(yǎng)料。水熱合成就是通過這樣的循環(huán)往復(fù)而生長晶體。
助熔劑法
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